单斜氧化锆粉末具有出色的物理和化学特性，是制造结构性和功能性高级陶瓷的理想材料。单斜氧化锆在各种陶瓷应用中必不可少：瓷砖装饰颜料、耐火材料、PZT和电介质材料、研磨材料、热障涂层，以及膜应用填料或锂电池阴极材料的掺杂剂。
ZirPro使用两种基于天然硅酸锆热处理或化学处理的工业氧化锆生产工艺：
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与熔融粉末相比，热法氧化锆牌号CC、CS和CF具有更高的反应活性，这得益于其独特的树枝状颗粒形态。
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化学氧化锆牌号CZ、CZP和CZE是高纯度粉末，具有广泛的粒径分布和反应活性。
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ZirPro热法氧化锆牌号
与熔融粉末相比，热法氧化锆具有更高的反应活性，这得益于其独特的树枝状颗粒形态。
热法氧化锆牌号采用结合锆砂熔融和化学处理的ZirPro专利工艺制造。
ZirPro可提供三种牌号的热法氧化锆：CC、CS和CF。
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CC、CS、CF、CZ和CZE
CC粉末具有独特的树枝状形态，因此具有很高的反应活性。
CC牌号氧化锆是通过硅酸锆在高温下熔融并结合化学处理制成的热法氧化锆。得益于ZirPro独特的工艺，CC粉末比熔融氧化锆具有更高的反应活性。
CC粉末可提供多种d50和SSA：- D50从3.5 µm到0.7 µm
- 典型的比表面积为3.0至6.0m²/g
典型粒径和比表面积
Monoclinic Zirconia CC CS CF CZ CZP CZE 纯度 (%) 98.8 99.0 99.0 >99.9 >99.9 >99.9 D50 (µm) 0.7 - 3.5 0.6 - 3.5 1.0 - 7.0 2.5 - 25.0 5.0 - 15.0 0.4 - 0.7 SSA (m²/g) 3.0 - 6.0 1.5 - 6.5 4.5 - 7.5 5.0 - 8.0 2.0 - 3.0 6.0 - 25.0 
与CC牌号相比，CS牌号的纯度更高
CS牌号氧化锆通过对CC热法氧化锆进行提纯获得，由此可以获得纯度更高的粉末，并能更好地控制比表面积(SSA)。
可获得较大范围的d50和SSA：
-D50从3.5 μm到0.6 μm
-典型的比表面积为1.5至6.5m²/g
典型粒径和比表面积
CS氧化锆 CS10 CS05 CS02 CS01 D50 (µm) 3.5 3.5 8.0 1.0 - 2.5 SSA (m²/g) 1.0 - 2.5 1.4 2.9 2.0 - 3.5 纯度 (%) SiO2 0.08 Na2O 0.02 AI2O3 0.08 Fe2O3 0.02 典型化学成分
化学 (wt%) L.O.I (wt%) SiO2 Na2O Al2O3 TiO2 Fe2O3 CaO H2O CS10
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CS01
0.08 0.02 0.08 0.06 0.02 0.02 0.10 0.20 
由于具有更精细的树枝状形态，CF粉末比CC粉末具有更高的反应活性。CF牌号氧化锆粉末是通过等离子弧熔融硅酸锆，然后进行化学处理而制成的热法氧化锆粉末。在所有热法氧化锆牌号中，无论粒径如何，等离子技术都能实现最高的反应活性。CF氧化锆具有较高的比表面积，通常约为6m²/g，粒径范围为7.0至1.0μm。典型粒径和比表面积
CF氧化锆 CF10 CF02 CF02-LS D50 (µm) 7.0 1.0 1.0 SSA (m²/g) 4.0 - 7.5 CF02-LS SiO2 0.40 0.10 Na2O 0.05 0.05 Al2O3 0.05 0.05 Fe3O3 0.04 0.03 
CZ和CZP是高纯度化学氧化锆粉末，可实现广泛的粒径分布。CZ和CZP牌号源自氧氯化锆。 由于CZP等级的氯含量较低（Cl < 200ppm），相较于CZ粉末（Cl < 1000ppm），CZP等级更适用于敏感应用。可提供的粒径分布范围为2.5至25 µm。可根据要求提供其他反应活性和粒径。典型化学成分
化学(ppm) L.O.I (wt%) SiO2 Na2O Al2O3 TiO2 Fe2O3 CaO CZ-3
CZ-5
CZ-25
<100 <50 <100 <50 <50 <1000 <1.0 CZP-5
CZP-15
<100 <50 <100 <50 <50 <200 <1.0 
CZE粉末是经过化学处理的氧化锆产品，具有高反应活性和高纯度。CZE牌号是高度工程化的单斜锆氧化物，通过锆盐的化学沉淀制造，随后进行热处理和物理处理，以精确控制化学纯度、粒径分布和反应活性。除了市售牌号外，还可根据要求开发其他粒径分布和比表面积的牌号。CZE CZE-S1 CZE-M1 CZE-G1 D50 (µm) 0.4 0.4 0.7 SSA (m²/g) 4.0 - 8.0 14.0 - 18.0 23.0 - 27.0 纯度(ppm) SiO2 <200 <200 Na2O <200 <200 AI2O3 <100 <100 TiO2 <50 <50 Fe2O3 <50 <50 CI <100 <200 -
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